Технологија равних плоча од силицијум карбида спада у категорију потопљене ултрафилтрације. Његова основна примена укључује директно урањање модула мембране са равним плочама од силицијум карбида у резервоар за сирову воду или отпадну воду који се третира. Покрећући спољну снагу (обично негативан притисак који обезбеђује пумпа за пермеат или сифон), вода и честице мање од поре мембране продиру кроз слој мембране, док се честице веће од пора задржавају, чиме се постиже чврста-одвајање течности.
Процеси ултрафилтрационог чишћења деле се на физичко чишћење и хемијско чишћење. Физичко чишћење укључује процесе повратног испирања, прскања и аерације. Повратно испирање користи обрнути ток воде (који улази са пермеатног краја мембранског модула и прожима се кроз поре мембране) да би се уклонили дубоко-укочени и површински загађивачи из пора мембране. Процеси прскања и аерације користе хидраулички удар или сметње гаса да помогну у уклањању нечистоћа које су приањале на површину мембране. Хемијско чишћење користи хемијска средства за уклањање колоида, органске материје, неорганских соли и других загађивача формираних на и унутар ултрафилтрационе мембране, укључујући чишћење хемијским одржавањем (ЦЕБ) и хемијско ресторативно чишћење (ЦИП).
01 Силицијум карбид керамичка плоча са равним мембранским системима Радни режими
Начини рада система ултрафилтрације мембране од силицијум карбида су следећи:

Процес мембранске филтрације укључује следеће кораке:
Вода производа: Корак воде за производ уклања загађиваче као што су метални оксиди, суспендоване чврсте материје и бактерије;
Повратно испирање: Периодично повратно испирање је потребно да би се уклонио слој филтерског колача са површине мембране;
Прскање: Вода се прска директно на врх филтерског торња, побољшавајући повратно прање и ефикасност чишћења;
Аерација: Ваздух долази са дна филтерског торња, побољшавајући процес повратног прања и чишћења;
Хемијска циркулација: Уклања прљавштину или каменац са унутрашње стране мембранских листова;
Хемијско чишћење: Уклања прљавштину или каменац са спољашње стране мембране.
02 Процес рада система мембране од силицијум карбида са равним плочама
1. Убризгавање воде и вентилација ваздуха
Отворите горњи вентил за одзрачивање и улазни вентил да унесете сирову воду у мембрански резервоар, испуштајући ваздух из система.
Време покретања: Систем се први пут покреће или након што се систем мембране са равним плочама од силицијум карбида испразни од течности.

2. Филтрација
Филтрација користи пумпу за стварање негативног притиска (вакума) унутар мембране. Ова разлика притиска покреће молекуле воде кроз мембрану, омогућавајући пречишћеној води да тече са стране пермеата, док се загађивачи задржавају.

3. Физичко чишћење
Физичко чишћење се састоји од две фазе. Прва фаза користи пумпе за повратно испирање и уређаје за аерацију за повратно испирање и аерацију како би се решио утицај слоја филтерског колача на перформансе мембранског система. Друга фаза, која се изводи пре хемијског чишћења, укључује пражњење мембранског резервоара и коришћење процеса чишћења спрејом у комбинацији са повратним испирањем и аерацијом за темељно физичко чишћење елемената мембране, стварајући повољне услове за хемијско чишћење.
① Повратно испирање и аерација

② Пражњење и аерација мембранског резервоара

③ Прскање и повратно прање и аерација и пражњење

4. Хемијско чишћење
Хемијско чишћење је подељено на хемијско чишћење (ЦЕБ) и хемијско чишћење на{0}} месту (ЦИП).
① Чишћење хемијског одржавања (ЦЕБ)
Чишћење хемијског одржавања (ЦЕБ) укључује додавање хемикалија у воду за повратно испирање како би се побољшао ефекат чишћења.

② Хемијско чишћење на{0}} месту (ЦИП)
Када горње методе чишћења не успеју да поврате флукс или притисак пермеата достигне ЦИП вредност чишћења (-40 кПа), мора се започети хемијско чишћење на месту (ЦИП). Овај процес укључује урањање модула мембране равног листа од силицијум карбида у хемијско средство за чишћење како би се потпуно растворили и уклонили тврдокорни загађивачи са површине мембране и пора, чиме се враћају перформансе мембране.

03 Често коришћена средства за чишћење и захтеви за квалитет воде за чишћење керамичких плочастих мембрана од силицијум карбида
① Често коришћена средства за чишћење
Следећа табела наводи најчешће коришћена хемијска средства за чишћење:
|
Агент Типе |
Често коришћени агент |
|
Оксидирајући агенс |
натријум хипохлорит (НаОЦл) |
|
Алкалине Агент |
натријум хидроксид (НаОХ) |
|
Кисели агенс |
Хлороводонична киселина (ХЦл)/цитрат |
Напомена: Специфичне дозе агенса могу се подесити у складу са стварним условима на локацији.
② Захтеви за квалитет воде за чишћење
Вода за чишћење која се користи за растварање хемикалија за чишћење може бити УФ пермеат, чиста вода или други релативно чисти извори воде. Морају бити испуњени следећи услови:
|
Ставка |
Параметар |
|
Тотал Харднесс |
<80ppm (carbonate content) |
|
Индекс бојења (СДИ) |
<3 |
|
Тотална органска материја |
<8ppm |
|
Ирон Ионс |
<0.5ppm |
|
Силицијум јони |
<5ppm |
Напомена: Специфични рад и квалитет воде за чишћење могу се подесити у складу са стварним условима на локацији.
